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打脸来得这么快,国内光刻市场全面开花,ASML的改口很现实

所属分类:时事聚焦    发布时间: 2021-10-26    作者:佩兰体育视界
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由于起步晚、长期依赖进口等多种原因,此前我国芯片产业的自给率大约只有16%左右,这导致华为等中企被老美切断代工渠道之时,国内市场无法给予有效的帮助,只能默默忍受着“卡脖子”之痛。

光刻机作为芯片制造的核心设备,是我们大的短板。而全球能生产EUV设备的,只有荷兰光刻巨头ASML。在我国决定自主造芯的关键时刻,ASML若是能倒向我们,那一切就都容易多了。不过很可惜,产线上含有约20%美系技术的ASML,选择遵守老美所谓的出口管制规则,不向国内市场出口EUV。没办法,我们若想实现芯片国产化,就必须先跨过“光刻藩篱”。令人气愤的是,不能给我们提供帮助的ASML,居然在此时泼来冷水,表示即便把图纸给我们,也造不出光刻机。

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这显然是在打击国内市场自主研发光刻机的信心。庆幸的是,中科院、清北高校等国内科研机构并没有因此退缩,而是本着缺什么就造什么的原则,义无反顾的投入到了关键技术设备的攻关之中。正如王传福所说,再尖端的产品也是人造的,而非神造的。既然海外能做到,那么我们就没有理由做不到,且一定要做得更好。果然,经过一段时间的沉淀,国内市场在光刻领域开始突飞猛进、全面开花!

在高端光刻设备方面,唐传祥带领的清华科研团队突破了EUV核心的光源技术;中科院旗下的上海“光机所”在高端光刻设备的分辨率领域,提出了具有变革性的OPC技术。在中低端光刻设备方面,上海微电子从90nm一路研发到了28nm,且完成了技术检测与认证,预计年底前就将下线商用。值得强调的是,这款不含美系技术的光刻机,其曝光精度与ASML的DUV光刻机在同一范畴内。


我们在光刻领域所取得的研发成果,让荷兰ASML始料未及,此前泼冷水的它估计怎么也想不到,打脸居然来得这么快。更让人始料未及的是,不看好我们能自研光刻机的ASML一改此前“看热闹”的态度,开始示好我国市场,并表示要加大投资布局,保持与中企的密切合作。

这很符合海外企业的特点,当有求于他们之时,要么打死不卖、要么哄抬物价;在我们即将量产之时,就立刻放低姿态,开始讲合作的重要性,甚至是低价倾销。事实也的确如此,仅今年的第 一季度,ASML就往国内销售了11台光刻机,而近日更是表态,要卖给我们大批光刻机,而且还是降价交易。

ASML不仅改口改得很现实,而且所做出的举动更现实。因为在我们自主可控的光刻机即将落地之时,它明白,现在如果还端着,以后可能就真的就没机会卖给我们了。

更重要的是,它想抢占国内光刻市场,从而挤压我们国产光刻企业的发展空间,以保证它在光刻领域的地位和唯 一性。要知道,我国是全球大的半导体消费市场,一旦在光刻领域实现了崛起,即便是ASML,也很难与我们抗衡。

在国内光刻市场突破瓶颈的关键时刻,ASML的转变,对国内芯片企业来说将是会是一个定力的考验。